15.1.11

Cuando el Sílice se aplica por vía radicular se mejoran los resultados

En la horticultura está generalizado
el uso del riego localizado
PUBLICACIONES
Los resultados de la aplicación de Sílice en forma foliar o radicular pueden aumentar cuando se aplican en el suelo cerca de las raíces de las plantas, según un estudio publicado por D.C Rezende et al en la revista Australasian Plant Pathology de la APPS
La traducción del abstract de este trabajo de DC Rezende et al y titulado, efecto de aplicaciones radiculares y foliares de sílice en el desarrollo de mancha parda en arroz, está a continuación.
La aplicación de Sílice (Si) es una estrategia para manejar la mancha parda del arroz, pero no existen estudios sobre aplicaciones foliares de este elemento para controlar esta enfermedad.
 El propósito de este estudio fue comparar aplicaciones radiculares y foliares de Si sobre el desarrollo de mancha parda y determinar si existe una respuesta de defensa bioquímica.
Se cultivaron plantas de arroz (cv. Metica-1) en un suelo deficiente en Si y se realizaron los siguientes tratamientos: aplicación radicular de silicato de calcio (CS) (1.25 g/kg de suelo), aplicación foliar de silicato de potasio (PS) (40 g/L) y control (hojas pulverizadas con agua destilada). Cuando las plantas tuvieron 30 días se inocularon con una suspensión de conidios de Bipolaris oryzae.
La concentración de Si en los tejidos de las plantas de arroz fue marcadamente superior para las del tratamiento CS que para los otros. La intensidad de la deposición de Si, determinada mediante microanálisis con rayos X, entre las caras superior e inferior de las hojas en el tratamiento control fue similar. La deposición de Si se produce tanto en las caras adaxial como abaxial de las hojas de las plantas de arroz que recibieron CS mientras que en las plantas del tratamiento PS solo ocurre en la cara superior. El área bajo la curva de progreso de la mancha parda (AUBSPC, area under brown spot progress curve) no difirió significativamente entre el tratamiento PS y el control, pero fue significativamente menor en las plantas que crecieron en suelo mejorado con CS.
Los valores para el AUBSPC y el número de lesiones (NL) por cm2 de área foliar disminuyó en 37 y 47% respectivamente, con CS comparado con el control. La germinación de los conidios no fue inhibida por PS. La concentración del total de fenoles solubles y de los derivados del ácido lignin-tioglicólico no estuvo ligada a la reducción observada en el AUBSPC y en el NL. A pesar que la concentración de estas dos variables bioquímica parece ser ligeramente superior en las plantas del tratamiento control, posiblemente debido a una mayor severidad de la enfermedad y del NL, el tejido del arroz no estuvo lo suficientemente protegido frente a la colonización por B. oryzae.
Los resultados de este estudio sugieren que la aplicación foliar de Si puede disminuir la intensidad de la mancha parda, sin embargo, el nivel de control alcanzado no fue tan alto como el obtenido cuando el Si se aplica vía radicular.


Título original y lista completa de autores:
Effect of root and foliar applications of silicon on brown spot development in rice

D. C. Rezende (1), F. Á. Rodrigues (1, 3), V. Carré-Missio (1), D. A. Schurt (1), I. K. Kawamura A, G. H. Korndörfer (2)
(1) Viçosa Federal University, Department of Plant Pathology, Laboratory of Host-Parasite Interaction, Viçosa, Minas Gerais 36570-000, Brazil.
(2) Uberlândia Federal University, Agronomy Institute, Uberlândia, Minas Gerais 38400-902, Brazil.
(3) Corresponding author. Email: fabricio@ufv.br
Keywords: host resistance.
Australasian Plant Pathology 38(1) 67–73    doi:10.1071/AP08080
Submitted: 20 June 2008    Accepted: 29 September 2008    Published: 2 January 2009
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